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HL8507高流量臭氧发生器
臭氧作为环保型化学工艺替代方案，拥有高氧化还原电位，可通过高压电离方式制取，且易分解为氧气，无二次污染。在半导体领域，其典型应用覆盖TEOS/臭氧CVD、Ta,O.CVD、光刻胶剥离、晶圆清洗、污染物去除、表面处理、氧化层生长及ALD等核心制程;同时亦广泛适用于制药、水处理领域，可满足清洗、灭菌、消毒及在线清洗(CIP)等多元需求。
HL8515超高浓度高流量臭氧发生器
HL8515是华龙半导体开发的最具创新性和多功能性的臭氧发生器。该发生器采用新颖架构和专利放电室设计，能产生超洁净、超高浓度、高流量的臭氧，可将氧气转化为浓度>400g/Nm3的高浓度臭氧，广泛应用于半导体、平板显示器和光伏行业的前沿制程。HL8515的核心设计技术，是该设备实现多功能性的核心基础。
臭氧催化氧化系统
非均臭氧催化氧化法属干高级氧化水处理技术中的一个重要分支，主要通过直接反应和间接反应两种途径得以实现，将大分子、难以生物降解的有机物氧化成低毒或无毒的小分子物质，提高后续生化法的处理效果。
臭氧标准氧化还原电位较高(207V)，其被广泛用于有机物的氧化处理。但臭氧与有机物的反应具有选择性，导致单独臭氧氧化效率较低。为了克服臭氧与有机物选择性反应的缺陷，开发研制了新型的臭氧催化剂，可提高羟基自由基的产生量达300%，大幅增强臭氧的氧化能力。羟基自由基的氧化还原电位更高(280V)，且与有机物的反应没有选择性，反应速度快。
可以更好地去除废水中的有机物。
催化剂表面及内部空穴可以对水中臭氧进行吸附富集，增加了局部的臭氧浓度，通过催化作用增大了臭氧产生羟基自由基的转化效率，极大提高羟基自由基浓度，使得反应效果显著，反应速度更快，有机物降解更为彻底充分。
臭氧标准氧化还原电位较高(207V)，其被广泛用于有机物的氧化处理。但臭氧与有机物的反应具有选择性，导致单独臭氧氧化效率较低。为了克服臭氧与有机物选择性反应的缺陷，开发研制了新型的臭氧催化剂，可提高羟基自由基的产生量达300%，大幅增强臭氧的氧化能力。羟基自由基的氧化还原电位更高(280V)，且与有机物的反应没有选择性，反应速度快。
可以更好地去除废水中的有机物。
催化剂表面及内部空穴可以对水中臭氧进行吸附富集，增加了局部的臭氧浓度，通过催化作用增大了臭氧产生羟基自由基的转化效率，极大提高羟基自由基浓度，使得反应效果显著，反应速度更快，有机物降解更为彻底充分。
120kg臭氧发生器
臭氧采用先进的高硼硅放电管技术，具有优化的机械设计和先进的IGBT供电单元，谐波污染和能耗低，臭氧浓度高，结构紧凑，结实耐用。 臭氧发生器为水平安装的形式，它可以直接安放在地上、或安装在基础上、或固定在架子上；由于水平安装而且通过观察端头的封板可以很容易的检查和维修。 志伟臭氧发生器有以下部分组成： 气源入口和分布室； 高压分配安装在气源入口分布室，为臭氧发生单元提供电能；
HUALONG臭氧水分解系统
臭氧水分解器是半导体湿法清洗工艺的核心配套设备，依托紫外(UV)光解技术与特殊流道结构设计，可将清洗后残留的臭氧水高效分解为无害的氧气和水，从根源上消除臭氧水对厂房管路的腐蚀问题。设备处理后的水体可经厂务系统回收再利用，大幅节省超纯水的消耗，完美契合半导体行业对“零排放、高安全”的严苛工艺标准。
HUALONG臭氧气体破坏器
臭氧气体破坏装置通过专用催化剂实现高浓度臭氧的安全分解，可将臭氧含量降至检测限，远低于行业安全阈值。催化材料封装于高强度不锈钢筒体内，因臭氧分解为放热反应，筒体可能出现温升过热情况;为保护现场人员与生产环境免受高温筒体影响，设备特配备双层外护壳体进行隔热防护。
