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半导体专用臭氧发生器200-500g

该半导体专用臭氧发生器,高臭氧浓度、低耗氧量、低功耗、相关反应性高、低能耗,在半导体清洗刻蚀方面的应用获得二项发明专利。

半导体专用臭氧发生器40-100g

该半导体专用臭氧发生器,高臭氧浓度、低耗氧量、低功耗、相关反应性高、低能耗,在半导体清洗刻蚀方面的应用获得二项发明专利。

半导体专用臭氧发生器10-30g

该半导体专用臭氧发生器,高臭氧浓度、低耗氧量、低功耗、相关反应性高、低能耗,在半导体清洗刻蚀方面的应用获得二项发明专利。

5-10g臭氧发生器

此款设备专为食品制药行业空间杀菌设计开发,外型简单大方,操作简单。采用空气为原料,通过干燥处理后,臭氧浓度稳定。

10-20g臭氧发生器

应用领域: 1. 车间净化 2. 更衣室 3. 各行业实验室——污水处理、气体处理、工业氧化 4. 消毒水制备