IICIE收官｜华龙半导体——深圳2026 IICIE圆满落幕

华龙半导体臭氧清洗设备15B105展位，牛志宝董事长率市场部和技术部团队三天全程在线。

华龙半导体依托二十余年的臭氧技术积累，把干法落地、湿法控污、分解闭环一项一项做出来。华龙半导体臭氧清洗设备主要应用于光刻胶剥离、晶圆清洗、污染物去除、表面处理、氧化层生长及ALD等核心制程。

展会即将结束，但华龙半导体在半导体臭氧清洗设备这条路上，一项一项跑验证数据的步伐不会停。

感谢每一位到华龙半导体展位交流的行业精英，华龙半导体随时欢迎各位同仁来厂参观交流！